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NOR Flash信号质量测试,信号完整性测试

发布时间:2023-12-17        浏览次数:5        返回列表
前言:NOR Flash信号质量测试,信号完整性测试
NOR Flash信号质量测试,信号完整性测试

EPROM

Intel很早就发明了EPROM,这是一种可以用紫外线擦除的存储器。相较于ROM,它的内容可以更新而且可以保持10~20年,老式电脑的BIOS都存储于此。它的顶部必须被覆盖住,以防被阳光里的紫外线擦除。

发明者:Intel。

痛点:用紫外线擦除的存储器,擦除很麻烦。

2、EEPROM

后来Intel在其基础上于1978年发明了电可擦除的升级版叫做EEPROM。不需要阳光的帮忙,方便多了,可是读取和擦除速度却非常缓慢。

痛点:擦除速度很慢。

3、NOR Flash

桀冈富士雄(Fujio Masuoka),他于1971年加入了东芝公司。受到了EEPROM的启发,他开始利用自己夜晚和的时间钻研一种能快速擦除的EERPOM(我们也要向他学习啊)。他在1980年取得突破,申请了一个叫做simultaneously erasable EEPROM的专利。当他拿着他的样品参加当年的IEEE大会的时候,NOR Flash引起了轰动。由于新发明的这种EEPROM擦除速度飞快,富士雄的同事建议他把这种技术取名Flash,暗合相机的闪光灯飞快闪烁之意。

发明者:桀冈富士雄(Fujio Masuoka)(东芝)。

痛点:制造成本高。

4、NAND Flash

富士雄却并没有停止他的追求,在1986年发明了NAND Flash,大大降低了制造成本。

 

二、工作原理

1、存储数据原理

两种Flash都是用三端器件作为存储单元,分别为源极、漏极和栅极,与场效应管的工作原理相同,主要是利用电场的效应来控制源极与漏极之间的通断。栅极的电流消耗极小,不同的是场效应管为单栅极结构,而 Flash为双栅极结构,在栅极与硅衬底之间增加了一个浮置栅极。浮置栅极是由氮化物夹在两层二氧化硅材料之间构成的,中间的氮化物就是可以存储电荷的电荷势阱。上下两层氧化物的厚度大于50埃(埃米是晶体学、原子物理、超显微结构等常用的长度单位,音译为"埃",符号为?,1?等于10-10m,即纳米的十分之一),以避免发生击穿。

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